Sasaran Sputtering Tantalum

Tantalum sputtering sasaran huraian sputterin
Sasaran sputtering tantalum mempunyai sifat yang sama dengan bahan mentahnya. Tantalum adalah salah satu logam tahan api yang jarang berlaku, keras, biru-kelabu, tahan karat. Takat lebur tantalum ialah 2980 darjah dan ketumpatan ialah 16.68g/cm3. Tantalum mempunyai satu siri sifat yang sangat baik seperti takat lebur yang tinggi, tekanan wap rendah, prestasi kerja sejuk yang baik, kestabilan kimia yang tinggi, rintangan kuat terhadap kakisan logam cecair, dan pemalar dielektrik besar bagi filem oksida permukaan. Ia mempunyai aplikasi penting dalam bidang berteknologi tinggi seperti elektronik, metalurgi, keluli, industri kimia, karbida bersimen, tenaga atom, teknologi superkonduktor, elektronik automotif, aeroangkasa, penjagaan perubatan dan kesihatan, dan penyelidikan saintifik.

Keperluan prestasi sasaran tantalum sputtering
Ketulenan sasaran tantalum dibahagikan kepada tiga tahap: 99.95% (3N5), 99.99% (4N) dan 99.995% (4N5), dan kandungan kekotoran individu tertentu harus memenuhi keperluan pengguna. Selepas pemesinan ketepatan, sasaran tantalum mempunyai kekasaran permukaan yang baik dan permukaannya harus bersih dan cerah. Semasa proses pemprosesan tekanan, struktur dalaman sasaran tantalum adalah mudah untuk berstrata. Selain itu, pori-pori juga mudah terbentuk di dalam jongkong tantalum.

Sasaran tantalum yang layak seharusnya tidak mempunyai kecacatan seperti stratifikasi dan liang dalaman organisasi; saiz butirannya hendaklah memenuhi keperluan dalam Jadual 9-24; kekerasan mereka harus memenuhi keperluan 60HV~110HV. Sasaran tantalum boleh dikimpal pada plat belakang dengan memateri atau kimpalan resapan, dan kualiti kimpalan harus memenuhi keperluan dalam Jadual 9-25. Diameter sasaran tantalum untuk cip semikonduktor biasanya 200~460mm dan ketebalannya ialah 6~10mm.

Sasaran Sputtering Tantalum

Sasaran Tantalum

Komposisi Kimia

Produk Logam Yusheng

Baoji Yusheng Metal Technology Co., Ltd. terletak di Zon Pembangunan Berteknologi Tinggi Bandar Baoji, Wilayah Shaanxi. Produk utama syarikat ialah: tantalum, niobium, vanadium, tungsten, molibdenum, titanium, zirkonium, nikel, kobalt, indium, hafnium, timah, kromium dan aloinya Profil pemprosesan konvensional seperti plat, jalur, kerajang, rod, wayar, dan tiub, serta bot, mangkuk pijar, sasaran sputtering, sasaran salutan, bahagian dimesin, perisai haba relau suhu tinggi, elemen pemanas, badan relau (relau pemanas, Relau penyepuhlindapan), peralatan tahan kakisan dan produk lain yang diproses dalam.

Peralatan Logam Yusheng

Kami mempunyai relau pengeboman pancaran elektron 350KW, penekan hidraulik 2000T. Relau penyepuhlindapan vakum 1700mm, satu mesin penempaan halus 42KW dan dua 15KW, 14-mesin gelek kerajang halus gulungLDD120,LDD-40, LDD-15 , LDD-8 mesin gulung paip dua garis,2-gulung 500T open bilet mil, 4-roll cold rolling machine.6-roll cold rolling machine, mesin lukisan dua sisi 15KW, mesin pengisar silinder, mesin menguliti, mesin pengisar permukaan dan siri peralatan lain.

Aplikasi Sasaran Tantalum Sputtering

• Digunakan dalam peralatan makmal.
• Digunakan sebagai pengganti platinum.
• Digunakan dalam sektor metalurgi, pemprosesan jentera, kaca dan seramik; digunakan dalam penghasilan superaloi dan peleburan rasuk elektron.
• Digunakan sebagai tambahan aloi super dalam aloi berasaskan nikel.
• Digunakan sebagai sasaran sputtering dalam paparan hablur cecair transistor filem nipis dan litar bersepadu (TFT-LCD).

Cool tags: sasaran tantalum sputtering, pembekal, pengilang, kilang, disesuaikan, beli, harga, sebut harga, kualiti, untuk dijual, dalam stok