
Ta Sputter Sasaran
2.Gred:R05200 R05400 R05252 (Ta-2.5W) R05255 (Ta-10W)
3. Ketulenan: Lebih besar daripada atau sama dengan 99.95% (Maksimum 99.99%)
4. Menghablur semula: Minimum 95%
5. Saiz Bijirin: Minimum 40um
6. Kekasaran Permukaan: Ra Maksimum0.4
7.Kerataan:0.1mm atau maksimum 0.10%
8.Toleransi:Diameter +/-0.254mm
Yusheng logam tantalum sputtering proses pengeluaran sasaran
Produk sasaran tantalum sputtering Yusheng Metal diproses daripada jongkong tantalum menggunakan proses pengeboman, penggelek dan penyepuhlindapan elektron EB. Sasaran yang dibuat oleh proses ini mempunyai struktur kristal seragam, tekstur, dan pengagihan tenaga, dan struktur dalaman yang baik.
Dalam tahun-tahun kebelakangan ini, skala industri IC (litar bersepadu) terus berkembang, dan teknologi proses cip juga telah berkembang ke arah ketumpatan tinggi. Tantalum sering digunakan sebagai bahan salutan sputter untuk lapisan penghalang resapan dalam proses sambungan tembaga kerana kestabilan kimianya yang kuat. Struktur mikro seragam sasaran sputtering tantalum mempunyai kesan langsung terhadap prestasi sputtering.
Tantalum targets require fine and uniform grains, randomly dispersed grain orientation, and excellent film manufacturing performance. However, due to the properties of tantalum, a microstructure can easily form during cold working with a core orientation of 111 (111>/ND) and a surface orientation of 100 (100>/ND). Apabila mengeluarkan filem nipis, kadar sputtering berubah bergantung pada ketebalan sasaran, yang menjejaskan kestabilan proses sputtering.
Ta prinsip sasaran sputtering
Tantalum sering digunakan dalam penghasilan kapasitor elektrolitik kerana keupayaannya membentuk oksida nipis dan sifat pelindung lapisan oksida. Penyejatan digunakan pada peringkat awal pemendapan tantalum, tetapi apabila teknik pemendapan wap fizikal seperti salutan sputter muncul pada akhir 1960-an sebagai kaedah unggul untuk pemendapan filem nipis, ia menggantikan penyejatan.
Dalam proses pemendapan wap fizikal, atom argon terion menggunakan mekanik elektromagnet untuk memberi kesan kepada sasaran, menjatuhkan atom sasaran logam, dan atom sasaran logam dimendapkan pada substrat untuk membentuk filem nipis.
Peralatan pengeluaran logam Yusheng
Yusheng Metal mempunyai set lengkap penyelidikan saintifik, pengeluaran, ujian, jualan dan sistem perkhidmatan daripada peleburan, penempaan, gelek panas, gelek sejuk, kemasan hingga bahan siap. Ia mempunyai relau pengeboman timur elektronik 350KW, mesin penekan hidraulik 2000T, relau penyepuhlindapan vakum 1700mm dan mesin penempaan ketepatan Satu 42KW dan dua 15KW, 14 kilang jalur kemasan, LDD120, LDD-40, LDD{{8} }, LDD-8 kilang menggelek paip dua talian, 2-roll 500T blanking mill, 4 cold rolling mill, 6 cold rolling kilang Mesin, 15KW mesin lukis wayar dua sisi, pengisar silinder, mesin pengelupasan, pengisar permukaan dan satu siri peralatan.



Penggunaan sasaran tantalum sputtering
Bahan sasaran sputtering tantalum diperbuat daripada kepingan tantalum yang diproses tekanan dan mempunyai ciri-ciri ketulenan tinggi, butiran halus, struktur penghabluran semula yang baik, dan konsistensi tiga paksi yang baik.
Sasaran sputtering Tantalum digunakan secara meluas dalam industri optoelektronik dan semikonduktor. Ia digunakan terutamanya untuk pemendapan sputtering salutan sputtering katod, bahan aktif sedutan vakum tinggi, gentian optik, wafer semikonduktor, litar bersepadu, dll. Ia adalah bahagian penting dalam teknologi filem nipis.

Baoji Yusheng Logam Teknologi Co., Ltd.ialah pembekal global tantalum emas, niobium, vanadium, zirkonium dan bahagian pemprosesan hafnium emas yang jarang ditemui. Ia terutamanya menghasilkan wayar, rod, plat, tiub, cincin, mangkuk pijar, dsb. dan lain-lain bahagian pemprosesan khas bukan standard. Kami akan sentiasa mengeluarkan maklumat yang berkaitan dengan produk dan disiplin bahan syarikat kami, meliputi keseluruhan rantaian penyelidikan dan pembangunan teknologi bahan, perindustrian pencapaian bahan, aplikasi dan promosi produk bahan, aglomerasi industri bahan, dan ekologi industri bahan. Anda dialu-alukan untuk menghubungi kami pada bila-bila masa.

Hubungi kami
Pengurus Jualan:
Hubungi: Li Fengwu
Email: kd@tantalumysjs.com
Tel: 13379388917
Faks: 0917-3139100
Poskod: 721013
web:https://www.tantalumysjs.com/
Tambah:Wenquan village Industrial Zone, Gaoxin Development Zone, Baoji City, Shaanxi Province, China
Cool tags: sasaran sputter, pembekal, pengilang, kilang, disesuaikan, beli, harga, sebut harga, kualiti, untuk dijual, dalam stok
Sepasang
Aplikasi Luas Sasaran TantalumSeterusnya
Sasaran Sputtering TantalumAnda mungkin juga berminat
Hantar pertanyaan












