Sasaran Sputtering Tungsten Titanium

Sasaran Sputtering Tungsten Titanium:

Sasaran Sputtering Tungsten Titanium kami dihasilkan menggunakan teknik pembuatan metalurgi serbuk termaju. Kami menawarkan sasaran sputtering WTi dalam pelbagai saiz, sehingga 400 milimeter diameter. Kami adalah antara pengeluar pertama yang mencipta WTi sebagai sasaran berputar dan sasaran planar. Kandungan titanium sasaran WTi kami biasanya 10% mengikut berat.

Sasaran Sputtering Tungsten-titanium

Aloi tungsten-titanium

Kawasan aplikasi untuk tungsten-titanium:
Tungsten-titanium (WTi), yang mengandungi 10% titanium mengikut berat, digunakan sebagai gam metalisasi dan penghalang resapan dalam mikrocip. Dalam kes ini, WTi digunakan untuk memisahkan lapisan metalisasi dan semikonduktor, seperti tembaga daripada silikon atau aluminium daripada silikon. Tanpa halangan resapan, silikon dan kuprum akan bergabung untuk mencipta fasa antara logam dalam mikrocip, yang akan menjejaskan prestasi semikonduktor. Lapisan penghalang WTi digunakan dalam sel suria filem nipis fleksibel (CIGS) untuk menghentikan ion besi daripada meresap melalui sentuhan belakang molibdenum dan ke dalam semikonduktor. Kecekapan sel suria CIGS boleh dikurangkan dengan hanya beberapa g/g besi.

a. Metalurgi serbuk digunakan untuk mencipta sasaran sputtering titanium tungsten, yang digunakan secara meluas dalam pembuatan sel suria semikonduktor dan filem nipis.

b.WTi10wt% filem nipis digunakan dalam aplikasi semikonduktor sebagai lapisan lekatan dan penghalang resapan untuk mengasingkan lapisan metalisasi daripada semikonduktor, seperti kuprum atau aluminium daripada silikon. Hasilnya, fungsi transistor dalam cip mikro boleh dipertingkatkan dengan banyak.

c.WTi10wt% filem nipis juga digunakan dalam sel suria filem nipis sebagai lapisan penghalang untuk menghentikan ion besi daripada meresap dari substrat keluli ke sentuhan belakang molibdenum dan semikonduktor CIGS.Sasaran yang diperbuat daripada tungsten titanium juga digunakan untuk menutup alatan dan LED .

Dalam kedua-dua rajah, pemetalan semikonduktor cip flip menggunakan lapisan WTi ditunjukkan di bawah pembinaan skematik sel solar CIGS di sebelah kiri.

Kualiti lapisan meningkat dengan ketulenan bahan salutan. Untuk memastikan tahap ketulenan bahan yang terbaik, kami hanya menggunakan serbuk yang paling tulen dan mencampurkannya dalam kemudahan kami sendiri dari awal. Daripada serbuk hingga produk siap, kami mengawasi setiap peringkat dengan teliti untuk memastikan bahawa hanya sasaran dengan ketumpatan terjamin tepat, ketulenan dan struktur mikro yang homogen meninggalkan kemudahan kami.

Kilang kami mampu menghasilkan sasaran dengan WTi 90/10wt%, WTi 85/15wt%, dan komposisi khas Tungsten Titanium Sputtering Targets yang boleh disesuaikan. Ketumpatan sasaran sebenar ialah > 99%, dan saiz butiran biasa ialah 100um. Pengguna akhir boleh mencapai kadar hakisan yang berterusan dan salutan filem nipis ketulenan tinggi dan homogen semasa proses PVD dengan sehingga ketulenan 4N5 dan rawatan penyepuhlindapan khas, saiz butiran seragam dan kandungan gas yang berkurangan.

Jika anda mempunyai sebarang keperluan atau pertanyaan, sila hubungi kami.

 

 

HUBUNGI KAMI

Pengurus Jualan:

Hubungi: Li Fengwu

Email: kd@tantalumysjs.com

Tel: 13379388917

Faks: 0917-3139100

Poskod: 721013

Web:https://www.tantalumysjs.com/

Tambah:Wenquan village Industrial Zone, Gaoxin Development Zone, Baoji City, Shaanxi Province, China

Cool tags: sasaran tungsten titanium sputtering, pembekal, pengilang, kilang, disesuaikan, beli, harga, sebut harga, kualiti, untuk dijual, dalam stok