Sasaran Sputtering Titanium

Apakah sasaran untuk titanium sputtering?
Adalah penting untuk memahami titanium pada mulanya untuk memahami sasaran sputtering titanium.

Unsur logam titanium terkenal dengan kekukuhan dan ketahanannya. Ia berharga sebagai logam refraktori kerana takat leburnya yang agak tinggi (lebih daripada 1,650 darjah atau 3,000 darjah F). Salutan sputter ialah kaedah yang menggunakan sasaran titanium, yang dibina daripada logam titanium.

Tuangan dan peleburan ialah dua proses asas yang digunakan untuk mencipta sasaran titanium.

Apabila logam cair, suhu tinggi digunakan untuk menyebabkan ia bertukar menjadi cecair. Sasaran dihasilkan sebaik sahaja ia dimasukkan ke dalam acuan dan diberi masa untuk menyejukkan.

Tuangan: Zarah bertenaga tinggi ditembak pada logam di dalam ruang vakum. Logam itu mengewap akibatnya, terpeluwap pada permukaan sasaran apabila ia sejuk.

Spesifikasi Titanium (Ti).

Salah satu komponen utama dalam mencipta litar bersepadu, ketulenannya sering menuntut lebih daripada 99.99 peratus . Untuk industri semikonduktor dan suria, AEM menyediakan sasaran aloi titanium seperti Tungsten Titanium (W/Ti 90/10 wt peratus ) Sasaran Sputtering. Ketumpatan sasaran untuk sputtering W/Ti boleh melebihi 14.24 g/cm3, dan ketulenan boleh menghampiri 99.995 peratus .

Titanium logam mulur dan kuat mempunyai ketumpatan rendah (terutama dalam persekitaran bebas oksigen). Ia berharga sebagai logam refraktori kerana takat leburnya yang agak tinggi (lebih daripada 1,650 darjah atau 3,000 darjah F). Ia mempunyai kekonduksian elektrik dan haba yang rendah dan bersifat paramagnet. Salutan alat perkakasan, salutan hiasan, salutan komponen semikonduktor, dan salutan paparan rata adalah semua kegunaan yang kerap untuk sasaran sputtering titanium. Salah satu komponen utama dalam mencipta litar bersepadu, ketulenannya sering menuntut lebih daripada 99.99 peratus . Untuk industri semikonduktor dan suria, AEM menyediakan sasaran aloi titanium seperti Tungsten Titanium (W/Ti 90/10 wt peratus ) Sasaran Sputtering. Ketumpatan sasaran untuk sputtering W/Ti boleh melebihi 14.24 g/cm3, dan ketulenan boleh menghampiri 99.995 peratus .

Kegunaan termasuk paparan panel rata, salutan hiasan untuk alatan perkakasan dan semikonduktor.

Ciri-ciri: Kos rendah; ketulenan tinggi; bijirin halus; struktur mikro kejuruteraan; saiz bijian purata 20 um; gred semikonduktor.

Di tapak web kami, kami menyediakan pilihan luas sasaran sputtering, sumber penyejatan dan bahan pemendapan lain, disusun mengikut bahan. Sila pergi ke sini untuk meminta anggaran sasaran sputtering dan produk pemendapan lain yang tidak disenaraikan atau bercakap dengan seseorang secara langsung tentang harga semasa.zy@tantalumysjs.com

Cool tags: sasaran sputtering titanium, pembekal, pengilang, kilang, disesuaikan, beli, harga, sebut harga, kualiti, untuk dijual, dalam stok