
99.99 peratus Tantalum Oksida
Sifat fizikal dan kimia 99.99 peratus tantalum oksida
Ketumpatan | 8.2 g/mL pada 25 darjah (lit.) |
Takat lebur | 1872 darjah |
Kesucian | 99.99 peratus |
Formula molekul | O5Ta2 |
Berat molekul | 441.89300 |
PSA | 77.51000 |
Spesifikasi | 5μm atau dihasilkan mengikut keperluan pelanggan. |
Penampilan | Putih ke putih - serbuk kuning air |
Keadaan penyimpanan | Pastikan bekas tertutup rapat, simpan di tempat yang sejuk dan kering dan pastikan pengudaraan atau ekzos yang baik di dalam bilik kerja |
Kestabilan | Tiada penguraian jika digunakan dan disimpan mengikut spesifikasi, tiada tindak balas berbahaya yang diketahui, elakkan oksida. Tidak larut dalam air. Tidak larut dalam hampir semua asid kecuali asid hidrofluorik. Pelauran eutektik dengan kalium bisulfat, dengan logam alkali hidroksida, atau dengan karbonat logam alkali masing-masing memberikan tantalat yang setara dengan pelbagai logam. Tantalat secara amnya mudah dihidrolisis dan terurai sepenuhnya oleh tindakan asid tak organik yang kuat, menghasilkan mendakan tantalat koloid putih. Apabila asid tantalik benar-benar dehidrasi, tantalum pentoksida diperoleh. |
99.99 peratus spesifikasi dan pembungkusan Tantalum oksida:
1, Kami boleh memproses dan memesan spesifikasi yang berbeza mengikut keperluan pengguna.
2, Pembungkusan: kotak kayu atau mengikut keperluan pengguna, dibahagikan kepada beg dan tong.
99.99 peratus aplikasi Tantalum oksida:
Terutamanya digunakan untuk bahan bersalut, elektro-optik. Suhu penyejatan ialah 1920 darjah di bawah vakum 10-2 Pa. Ia boleh dipanaskan dengan tantalum, bot tungsten dan gegelung untuk penyejatan, atau oleh mangkuk pijar tungsten untuk penyejatan, dengan hasil yang baik dengan pancaran elektron pemanasan. Filem tantalum oksida mempunyai zon lutsinar 0.3 hingga 10 μm dan indeks biasan n=2.25 (λ=0.4 μm) dan n=2.1 (λ{{12} }}.55 μm, Ts{14}} darjah ). Salutan Ta2O5 boleh digunakan sebagai bahan filem indeks biasan tinggi dalam salutan gangguan, dan sifat mekanikalnya sangat kuat dan alkali kuat tidak menghakisnya. Ia juga boleh digunakan sebagai salutan pelindung, terutamanya untuk aplikasi dalam persekitaran suhu tinggi.
Filem nipis boleh disediakan dengan menggunakan pelbagai kaedah seperti pengoksidaan terma, penyejatan pancaran elektron, pemercik DC, pemancutan DC magnetron reaktif, pemancutan RF, pemancutan reaktif, pemancutan RF reaktif, pemancutan pancaran ion, penyaduran ion, pemendakan berbantukan ion dan anodik. pengoksidaan.

Cool tags: 99.99 peratus tantalum oksida, pembekal, pengilang, kilang, disesuaikan, beli, harga, sebut harga, kualiti, untuk dijual, dalam stok
Sepasang
Tantalum PentoksidaSeterusnya
Zarah Tantalum CarbideAnda mungkin juga berminat
Hantar pertanyaan











