Aloi Tantalum - 111

Baoji Yusheng Metal terutamanya menghasilkan tungsten, molibdenum, tantalum, niobium, zirkonium, kromium, titanium, nikel, vanadium, kobalt, hafnium dan aloinya dalam bentuk plat, kepingan, jalur, kerajang, rod, wayar, tiub dan lain-lain yang diproses secara konvensional profil, serta bot, mangkuk pijar, sasaran sputtering, sasaran salutan, bahagian dimesin, skrin penebat relau suhu tinggi, elemen pemanas, badan relau (relau pemanasan, relau penyepuhlindapan), peralatan tahan kakisan dan produk lain yang diproses secara mendalam. Produk ini digunakan terutamanya dalam bidang relau kristal nilam, relau vakum, relau silikon monohabluran, implantasi ion semikonduktor, pengacuan suntikan serbuk logam, salutan vakum, relau suhu tinggi, gentian kaca, metalurgi, petrokimia, aeroangkasa, farmaseutikal, peralatan perubatan, makanan, marin, automotif, pembinaan, seramik industri, kejuruteraan perlindungan alam sekitar dan industri lain. Produk kami telah dijual di seluruh dunia, termasuk Amerika Syarikat, Jepun, Jerman, Australia, Kanada, Asia Tenggara dan kawasan lain.

Kesan komposisi aloi dalam mengurangkan masalah keruntuhan dalam aloi tantalum T-111

Disiasat ialah punca kemerosotan penuaan dalam Tantalum Alloy - 111 dan kesan perubahan aloi. Keputusan mendedahkan bahawa T-111 mempunyai nisbah penting tungsten dan hafnium yang menyebabkan kemuluran berkurangan pada -196 C selepas penuaan pada suhu kira-kira 1040 C. Telah didapati bahawa ini berlaku kerana tungsten menggalakkan pengasingan hafnium kepada sempadan bijian, yang meningkatkan kepekaan terhadap pereputan hidrogen. Aloi tantalum dengan kepekatan tungsten atau hafnium yang lebih rendah tidak menunjukkan kerosakan penuaan; namun begitu, majoriti aloi yang dikaji mempunyai kekuatan yang lebih rendah daripada T-111 dan mudah terdedah kepada pereputan hidrogen.

Pada 820 dan 990 C, oksigen dibekalkan pada tekanan kira-kira.0003 torr. Kaedah yang dibenarkan untuk doping oksigen yang boleh diramal dan berulang bagi aloi tantalum. (T-111). Mengikut pergantungan suhu tindak balas doping, larutan oksigen dalam kekisi T-111 berkemungkinan besar yang mengawal kadar pengambilan oksigen yang pertama. Tantalum dan tungsten oksida diguna pakai dalam spesimen as-doped, mungkin kerana kuantiti tantalum dan tungsten yang lebih besar dalam aloi, walaupun pada hakikatnya hafnium oksida lebih stabil daripada tantalum atau tungsten. Walau bagaimanapun, penyepuhlindapan suhu tinggi menggalakkan pembentukan oksida hafnium dengan menggalakkan pengoksidaan oksida lain dan oksigen terlarut.