Ciri -ciri sasaran hafnium
Bentuk sasaran hafnium: sasaran rata, khas - penyesuaian berbentuk
Kesucian sasaran hafnium: 3n5
Saiz sasaran hafnium: diproses mengikut lukisan atau disesuaikan oleh orang lain
Kami juga boleh menyediakan wayar hafnium, lembaran hafnium, granul hafnium, rod hafnium, serbuk hafnium, dll.
Proses Penyediaan Sasaran Hafnium Penyediaan logam hafnium: logam hafnium adalah bahan mentah sasaran hafnium, yang perlu disediakan dengan mengurangkan hafnium tetrachloride atau hafnium fluoride. Pemprosesan logam hafnium: logam hafnium diproses ke dalam bentuk dan saiz yang diperlukan, biasanya dengan memalsukan, meregangkan, memotong dan kaedah pemprosesan lain. Pembersihan sasaran hafnium: Bersihkan kekotoran dan oksida pada permukaan sasaran hafnium untuk memastikan kesucian bahan. Pemprosesan dan pengujian sasaran hafnium: Melelehkan bar Hafnium yang terhablur ke dalam jongkong, memproses jongkong ke sasaran bentuk dan saiz yang diperlukan, dan kemudian menguji saiz kesucian dan bijirin untuk memastikan kualiti sasaran Hafnium memenuhi keperluan. Di atas adalah langkah utama dalam penyediaan sasaran hafnium. Proses penyediaan pengeluar yang berbeza mungkin berbeza -beza, tetapi pada umumnya mereka berdasarkan langkah -langkah di atas.
Penerangan sasaran Tantalum
Nama Produk: Sasaran Tantalum
Jenama: TA1 TA2
Kesucian: Lebih besar daripada atau sama dengan 99.95% 99.99%
Ketumpatan: 16.66g/cm3
Permohonan: sasaran tantalum sputtering adalah lembaran tantalum yang diperolehi oleh pemprosesan tekanan, dengan kesucian kimia yang tinggi, saiz bijian kecil, recrystallization yang baik
Organisasi dan konsistensi dalam tiga paksi, terutamanya digunakan dalam pemendapan gentian optik, wafer semikonduktor dan litar bersepadu
Salutan, sasaran tantalum boleh digunakan untuk salutan sputtering katod, bahan aktif vakum yang tinggi, dan lain -lain. Ia adalah bahan penting untuk teknologi filem nipis.
