Mengikut ketulenan, ia boleh dibahagikan kepada plat tantalum tulen (seperti-plat tantalum ketulenan tinggi dengan ketulenan 99.99%) dan plat aloi tantalum; Mengikut ketebalan yang berbeza, ia boleh dibahagikan kepada kerajang tantalum (nipis), plat nipis tantalum, plat tebal sederhana tantalum, dll.
Tantalum terdedah kepada membentuk filem oksida padat (Ta ₂ O ₅) pada permukaannya, yang memberikannya rintangan kakisan yang kuat. Ia hampir tidak bertindak balas dengan asid lain (termasuk aqua regia) pada suhu bilik dan hanya larut dalam asid hidrofluorik dan asid sulfurik pekat. Ia juga boleh menahan hakisan media yang sangat menghakis seperti klorin dan bromin pada suhu tinggi. Takat lebur tantalum adalah setinggi 3017 darjah, kedua selepas tungsten dan renium, yang membolehkan plat tantalum mengekalkan sifat fizikal dan kimia yang stabil dalam persekitaran suhu tinggi. Tantalum adalah salah satu logam dengan rintangan yang lebih rendah dan kekonduksian yang baik, yang boleh mengalirkan arus dengan berkesan. Plat Tantalum mempunyai kekuatan mekanikal yang tinggi, keliatan yang baik dan rintangan haus, boleh menahan tekanan tinggi dan tekanan mekanikal, dan juga mempunyai keplastikan yang baik, yang boleh dibentuk melalui pemprosesan sejuk dan panas. Plat tantalum bukan-toksik dan tidak merengsakan tisu manusia, mempunyai biokeserasian yang baik dan boleh digunakan dengan selamat di dalam badan manusia.
Plat Tantalum adalah sejenis kepingan logam dengan prestasi cemerlang, digunakan secara meluas dalam pelbagai bidang. Oleh kerana kekonduksian yang sangat baik dan rintangan kakisan, plat tantalum sering digunakan untuk mengeluarkan komponen seperti kapasitor, perintang, litar bersepadu, dll., dan mempunyai aplikasi yang luas dalam komunikasi mudah alih, komputer dan produk elektronik pengguna. Oleh kerana ringan, rintangan suhu tinggi, dan rintangan kakisan, plat tantalum digunakan secara meluas dalam bidang seperti komponen enjin penerbangan dan struktur kapal angkasa, dan boleh mengekalkan kestabilan dan kebolehpercayaan dalam persekitaran yang melampau. Berdasarkan biokompatibiliti yang baik dan rintangan kakisan, plat tantalum boleh digunakan untuk mengeluarkan injap jantung tiruan, peranti perubatan yang boleh ditanam, dll. Rintangan kakisan plat tantalum menjadikannya pilihan yang ideal untuk mengendalikan asid dan alkali yang kuat, dan ia digunakan secara meluas dalam peralatan seperti reaktor kimia, saluran paip, pencerna, pemanas, dll.
Pengeluaran plat tantalum secara amnya merangkumi proses seperti penyediaan bahan mentah, pencairan, penggulungan, dan rawatan haba. Pertama, bahan mentah tantalum dicairkan untuk menghasilkan jongkong tantalum. Kemudian, jongkong tantalum digulung menjadi kepingan dengan ketebalan yang diperlukan melalui rolling panas, rolling sejuk dan kaedah lain. Akhir sekali, rawatan haba dijalankan mengikut keperluan untuk meningkatkan prestasi kepingan.
Plat Tantalum datang dalam pelbagai spesifikasi ketebalan, dan saiz boleh disesuaikan mengikut keperluan tertentu.
