Yusheng Metal Technology Co., Ltd. menumpukan pada R&D dan pengeluaran bahan hafnium ketulenan tinggi dan mempunyai pengalaman lebih daripada sepuluh tahun dalam R&D dan aplikasi bahan. Digabungkan dengan peralatan pengeluaran yang paling canggih, kami boleh menyediakan pelbagai profil logam yang jarang ditemui, seperti: sasaran kompaun dan bahan filem, sasaran aloi ketulenan tinggi dan bahan filem, pelbagai jenis crucible salutan penyejatan dan bot penyejatan dan aksesori lain. Ia digunakan secara meluas dalam bidang semikonduktor, optik ketepatan, inframerah laser, tenaga suria filem nipis, paparan sentuhan, kaca berfungsi, salutan permukaan dan bidang lain.
Hafnium terdapat dalam jumlah yang sangat kecil dalam kerak bumi dan selalunya wujud bersama zirkonium. Hafnium mempunyai sifat seperti rintangan suhu tinggi, rintangan kakisan, rintangan pengoksidaan, pemprosesan mudah, penyerapan haba yang cepat dan pelepasan haba, dan digunakan sebagai bahan tenaga atom, bahan aloi, bahan tahan suhu tinggi, bahan elektronik, dll.
Produk kami
Spesifikasi produk am
Zarah hafnium (hafnium berhablur) 1.4* (2.5-5mm) Zr 1.5%
Zarah hafnium (zirkonium rendah dan hafnium) 99.95% kira-kira 10mm ketulan Zr<1%
Zarah hafnium (span hafnium) 99.4% 3-25mm
Bahan sasaran Hafnium 99.9% sasaran bulat, sasaran segi empat sama. Saiz boleh disesuaikan
Serbuk hafnium 99.9% -300 mesh
Kegunaan hafnium
Hafnium digunakan terutamanya dalam sputtering magnetron, salutan penyejatan, peleburan aloi, metalurgi serbuk, dll.
Hafnium logam digunakan terutamanya untuk mengeluarkan elektrod dan sasaran untuk mesin pemotong plasma. Selepas produk siap, 60% dieksport dan 40% digunakan di dalam negara. Dan dengan perkembangan industri tenaga nuklear domestik, penggunaannya semakin meluas.
Bidang aplikasi hafnium
Hafnium boleh digunakan sebagai katod tiub sinar-X kerana ia mudah mengeluarkan elektron. Aloi hafnium, molibdenum dan tungsten juga boleh digunakan sebagai elektrod untuk tiub nyahcas voltan tinggi. Menurut laporan pada tahun 2012, pasukan penyelidik yang diketuai oleh Andrew Flovitt dari Jabatan Kejuruteraan di Universiti Cambridge di UK telah membangunkan jenis hafnium oksida baharu dengan pemalar dielektrik yang lebih tinggi, yang dijangka akan digunakan untuk mengeluarkan yang seterusnya. penjanaan peranti elektronik yang lebih kecil, peralatan pembuatan fotovoltaik dan sel fotovoltaik yang lebih cekap, dsb.
b.Industri tenaga atom
Hafnium digunakan pada logam reaktor. Hafnium mempunyai prestasi kimpalan yang sangat baik, prestasi pemprosesan, rintangan suhu tinggi dan rintangan kakisan, jadi ia telah menjadi bahan penting dalam industri tenaga atom. Hafnium mempunyai keratan rentas tangkapan neutron terma yang besar, menjadikannya penyerap neutron yang ideal dan boleh digunakan sebagai rod kawalan dan peranti pelindung untuk reaktor atom.
c.Bidang kimia
Pengambil Hafnium boleh mengeluarkan gas yang tidak diperlukan seperti oksigen dan nitrogen yang terdapat dalam sistem. Di samping itu, hafnium mempunyai anti-volatiliti yang kuat dan sering digunakan sebagai bahan tambahan dalam minyak hidraulik untuk mengelakkan volatilisasi minyak hidraulik semasa operasi berisiko tinggi.
d.Bahan aloi
Hafnium boleh digunakan dalam kapal angkasa. Hafnium mempunyai sifat seperti kemuluran, rintangan pengoksidaan dan rintangan suhu tinggi. Ia juga merupakan bahan aloi yang baik dan digunakan dalam pelbagai aloi. Sebagai contoh, aloi hafnium-niobium yang mengandungi 10% hafnium boleh digunakan sebagai muncung roket bulan, manakala aloi tantalum-tungsten yang mengandungi 2% hafnium boleh digunakan sebagai bahan lapisan pelindung untuk kapal angkasa kerana kekuatan rayapannya yang tinggi.
Kami mengalu-alukan perusahaan besar dan institusi penyelidikan saintifik untuk berganding bahu dan bekerjasama antara satu sama lain untuk menyediakan penyelesaian bahan salutan sehenti dan menyediakan sokongan teknikal material. Jika anda mempunyai sebarang keperluan, sila hubungi terus:kd@tantalumysjs.com
