Seperti yang kita sedia maklum, salah satu petunjuk prestasi utama sasaran ialah kemurnian. Keperluan ketulenan sasaran berbeza dalam aplikasi praktikal.Penggunaan bahan sasaran titanium ketulenan tinggi adalah lebih mahal dan mempunyai tetingkap aplikasi yang lebih kecil daripada titanium tulen industri biasa.digunakan terutamanya untuk memenuhi keperluan beberapa sektor khusus.Apakah kemudiannya kegunaan utama untuk sasaran titanium ketulenan tinggi?
Sasaran titanium ketulenan tinggi kebanyakannya digunakan untuk:
1. Komponen biologi
Oleh kerana titanium bukan magnet, medan magnet yang kuat tidak akan menyebabkannya menjadi magnet. Ia berfungsi dengan baik dengan tubuh manusia dan tidak mempunyai sebarang kesan sampingan negatif. Ia boleh digunakan untuk mencipta implan untuk badan manusia. Walau bagaimanapun, memandangkan pembubaran kekotoran dalam titanium, ketulenan titanium untuk implan hendaklah setinggi yang praktikal. Secara amnya, bahan titanium perubatan tidak mencapai tahap titanium ketulenan tinggi. Talian biologi boleh dibuat daripada wayar titanium ketulenan tinggi. Jarum suntikan titanium yang dibenamkan kateter juga telah mencapai tahap titanium ketulenan tinggi.
2. Bahan untuk hiasan
Titanium ketulenan tinggi mengekalkan warna semula jadi asalnya walaupun selepas pendedahan berpanjangan kepada atmosfera berkat rintangan yang tinggi terhadap kakisan atmosfera. Akibatnya, bahan untuk hiasan seni bina juga boleh dibuat daripada titanium ketulenan tinggi. Selain itu, dalam beberapa tahun kebelakangan ini, titanium telah digunakan untuk membuat beberapa aksesori dan pakaian kelas atas, termasuk gelang, jam tangan dan bingkai cermin mata. Titanium digunakan kerana ia tahan terhadap kakisan, tidak berubah warna, boleh mengekalkan kilauan yang baik untuk tempoh yang sangat lama, dan tidak merengsakan kulit manusia apabila ia bersentuhan dengannya. Tahap ketulenan 5N untuk titanium yang digunakan dalam beberapa hiasan telah dicapai.
3. Pengumpul bahan
Titanium ialah logam yang sangat reaktif dengan ciri-ciri kimia yang membolehkannya berinteraksi dengan pelbagai jenis bahan pada suhu tinggi.Penjerapan gas aktif yang kuat berlaku pada permukaan titanium ketulenan tinggi, termasuk O2, N2, CO, CO2, dan wap air melebihi 650 darjah. Pada dinding pam, filem Ti yang tersejat boleh mencipta permukaan dengan kapasiti penjerapan yang tinggi. Disebabkan oleh ciri ini, Ti kerap digunakan sebagai pengambil dalam sistem untuk mengepam vakum yang sangat tinggi. Tekanan operasi muktamad pam ion sputtering boleh serendah 10-9Pa apabila digunakan dalam pam sublimasi, pam ion sputtering, dan lain-lain.
4. Media maklumat dalam bentuk elektronik
Penggunaan titanium ketulenan tinggi dalam sasaran sputtering, litar bersepadu, DRAM dan paparan panel rata telah berkembang baru-baru ini hasil daripada pengembangan pesat industri teknologi tinggi dalam bidang seperti teknologi semikonduktor dan teknologi maklumat. Bergerak ke hadapan.Sebagai penghalang resapan dan bahan pendawaian untuk elektrod kawalan dalam industri semikonduktor VLSI, sebatian silikon titanium, sebatian nitrogen titanium, sebatian tungsten titanium, dll. Bahan-bahan ini dihasilkan menggunakan teknik sputtering, yang memerlukan sasaran titanium dengan tinggi tahap ketulenan, terutamanya untuk unsur logam radioaktif dan alkali.
Baru-baru ini, titanium ketulenan tinggi yang sepadan dengan ketulenan sasaran titanium yang digunakan dalam proses sputtering juga telah mula digunakan. Ketulenan titanium pada masa ini perlu sekurang-kurangnya 4N5 (99.995%) atau 5N (99.999%) untuk 4 Mbit VLSI, manakala ia perlu sekurang-kurangnya 6N (99.9999%) untuk VLSI generasi ketiga 16 Mbit.
